優(yōu)普超純水機大致分為四個單元：預(yù)處理、反滲透、超純化和終端超濾。自來水首先通過預(yù)處理單元，去除水中的大顆粒、懸浮物和一些有機物。然后進入反滲透單元，攔截并去除水中的離子性物質(zhì)和大分子物質(zhì)（如病毒、微生物等）。之后，凈化和超純化單元用于凈化和超純化膜去除后的殘留小離子，從而將水中的離子含量降低到微量水平。通過紫外線、超濾等技術(shù)確保超純水中的微生物、有機物和熱原滿足各種實驗應(yīng)用的要求。

　　
 

　　優(yōu)普超純水機需要滿足這樣的技術(shù)要求。

　　

　　1、兩級反滲透深度脫鹽，原水水質(zhì)<2000μs，硬度<450ppm。

　　

　　2、反滲透純水質(zhì)量達到GB6682-2008三類水標(biāo)準(zhǔn)，超純水優(yōu)于GB6682-2008一類水標(biāo)準(zhǔn)

　　

　　3、系統(tǒng)脫鹽率≥99.5%，源水與廢水的比例為1：3。

　　

　　4、具有運行異常（原水、預(yù)純水、超純水的水質(zhì)和水量）的自我診斷功能，預(yù)警或自動關(guān)閉系統(tǒng)。

　　

　　5、智能故障診斷（重要系統(tǒng)部件：電磁閥、增壓泵、紫外燈、傳感器等在線更換指標(biāo)）。

　　

　　優(yōu)普超純水機的應(yīng)用領(lǐng)域如下：

　　

　　1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日用化工、建材、制漆、電池、實驗室、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領(lǐng)域。

　　

　　2、純凈水用于化工工藝用水、化學(xué)品、化妝品等。

　　

　　3、單晶硅、半導(dǎo)體晶圓切割制造、半導(dǎo)體芯片、半導(dǎo)體封裝、引線框架、集成電路、液晶顯示器、導(dǎo)電玻璃、顯像管、電路板、光通信、計算機元件、電容清洗產(chǎn)品及各種元器件等生產(chǎn)過程的純水。